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本发明公开了一种磨粒流微流道抛光质量可靠性分析系统，包括磨粒流抛光系统，质量检测系统和可靠性分析系统，所述磨粒流抛光系统用于微流控芯片内微流道的抛光加工；所述质量检测系统用于对加工后的微流道进行质量检测，得到检测值R；所述可靠性分析系统对加...
该专利属于浙江工业大学所有，仅供学习研究参考，未经过浙江工业大学授权不得商用。

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