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半导体器件及其制造方法与电容器结构及其制造方法技术
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文档序号:3726302
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本发明公开一种半导体器件及其制造方法与电容器结构及其制造方法。该半导体器件包括转接板和半导体芯片。转接板包括:Si衬底;多个通路,通过绝缘材料在穿过Si衬底的相应通孔中设置;薄膜电容器,设置于Si衬底的第一主表面上,以使其电连接至通路;以及...
该专利属于富士通株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过富士通株式会社授权不得商用。
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