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本申请公开了一种像素值改善方法，属于半导体器件及制造领域。该方法在不添加以及优化其他工艺基础上，通过适当减小退火处理温度从而减小金属离子扩散，减少热载流子复合现象，减少暗电流，有效改善暗点现象。有效改善暗点现象。有效改善暗点现象。
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该专利属于华虹半导体（无锡）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华虹半导体（无锡）有限公司授权不得商用。

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