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根据本公开的示例实施例提供了光源优化方法、设备和介质。该方法包括获取测试图案、针对测试图案的参考工艺窗口和第一光源强度图，参考工艺窗口指示一个或多个工艺参数的范围，第一光源强度图是由光源在参考照明模式下产生的该方法还包括基于参考工艺窗口和第...
该专利属于全芯智造技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过全芯智造技术有限公司授权不得商用。

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