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一种光掩膜版及其形成方法,其中所述形成方法包括:提供透明基板,所述透明基板包括中间区域和环绕所述中间区域的边缘区域;在所述透明基板的中间区域表面上形成若干分立的遮蔽图形;提供环形框架,将所述环形框架粘附在所述透明基板的边缘区域表面,所述环形...该专利属于睿晶半导体(宁波)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过睿晶半导体(宁波)有限公司授权不得商用。
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