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本实用新型公开了一种LPCVD设备用进气装置，一种LPCVD设备用进气装置，包括封闭的进气总管，所述进气总管内设有反应气体输送管，所述反应气体输送管用于向反应室内输送反应气体，所述进气总管上设有冷却介质入口及冷却介质出口。本实用新型具有结构...
该专利属于湖南红太阳光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湖南红太阳光电科技有限公司授权不得商用。

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