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本发明提供了一种颗粒物去除装置、外延设备及其工作方法，属于半导体制造技术领域。颗粒物去除装置，用于去除外延炉内的颗粒物，所述外延炉包括炉体，所述炉体包括上部石英罩和下部石英罩，所述上部石英罩与所述下部石英罩扣合形成所述炉体的内腔，所述颗粒物...
该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。

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