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本发明描述与在电极与电介质材料之间形成阻隔材料有关的方法、设备及系统。一种实例方法包含在半导体制作过程中在存储节点的底部电极材料上形成电介质材料。所述方法进一步包含在所述电介质材料上形成阻隔材料以减少所述电介质材料中的氧空位。所述方法进一步...
该专利属于美光科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过美光科技公司授权不得商用。

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