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本申请公开了一种电子束邻近效应的矫正方法、装置及介质，涉及电子束光刻领域。之前的通过放大图形的方式中，在放大尖角的同时也会引起图形边的放大，导致图形失真，而本申请的方法中，由于只是对受邻近效应影响的位置处增加曝光区域，未受邻近效应的位置仍然...
该专利属于珠海莫界科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海莫界科技有限公司授权不得商用。

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