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本发明公开了一种带图案双层袋制袋工艺，包括以下步骤：1）、输入上膜和输入下膜；2）、上膜和下膜合膜，所述合膜过程中对上膜和下膜位置纠偏，上膜和下膜上均印刷有图案，通过纠偏使得上膜图案和下膜图案重叠；3）、对合膜烫底边；4）、对合膜烫侧边；5...
该专利属于无锡鸿昌精密机械有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡鸿昌精密机械有限公司授权不得商用。

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