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本发明涉及低反射、耐化学性及耐热性优秀的氧化钼基烧结体、使用该烧结体的薄膜、包含该薄膜的薄膜晶体管及显示装置。该薄膜的薄膜晶体管及显示装置。
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该专利属于LT金属株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LT金属株式会社授权不得商用。

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