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本申请公开了一种蒸镀速率检测装置和蒸镀设备,蒸镀速率检测装置包括晶振盘,晶振盘上设有环形槽以容置环形晶振片;和遮挡件,遮挡件可转动地设置在晶振盘上用于遮挡环形晶振片,且遮挡件的投影面积覆盖晶振盘,遮挡件开设有第一通孔,第一通孔用于露出环形晶...该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。
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本申请公开了一种蒸镀速率检测装置和蒸镀设备,蒸镀速率检测装置包括晶振盘,晶振盘上设有环形槽以容置环形晶振片;和遮挡件,遮挡件可转动地设置在晶振盘上用于遮挡环形晶振片,且遮挡件的投影面积覆盖晶振盘,遮挡件开设有第一通孔,第一通孔用于露出环形晶...