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本发明提供一种PVD系统的使用方法，属于半导体集成电路制造领域。本发明的方法包括：通气步骤：通过供气装置向腔室中通入氩气，氩气的流量为10
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该专利属于北京时代全芯存储技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京时代全芯存储技术股份有限公司授权不得商用。

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