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本发明涉及一种用于等离子体蚀刻的高温阴极，通常是适用于在高温等离子体蚀刻中应用的阴极。在一个实施方式中，阴极包含固定至基座的陶瓷静电卡盘。该基座具有形成在其中的冷却导管。在卡盘和基座之间配置有刚性支撑环，从而使卡盘和基座保持间隔分离的关系。...
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