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一种干蚀刻装置，其利用等离子体进行薄膜蚀刻。此干蚀刻装置由真空腔、上电极板、下电极板、等离子体真空放电区、电源以及气体出口所组成。其中，上电极板安装于真空腔内，且具有至少一气体入口，此气体入口用以导入工艺气体。下电极板亦安装于真空腔内，而等...
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