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本发明的实施例一般地涉及在等离子体处理室中限界等离子体的方法和装置。该装置可以包括与室壁具有在约０．８英寸到约１．５英寸之间的间隙距离的圈形环。如果在处理期间存在衬底，除了圈形等离子体限界环，还可以通过在等离子体处理期间将供应到顶电极的电压...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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