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本发明提供以简单的构成能够容易地控制聚合物的附着量的等离子体处理室。等离子体处理室（１０）具有覆盖容器（１１）的内周面的圆筒状的侧壁构件（４５），电位控制装置（４６）具有通过升降与侧壁构件（４５）接触，或者不与侧壁构件（４５）接触、接地的导...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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