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等离子体反应器中离子密度、能量分布及解离的独立控制制造技术
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下载等离子体反应器中离子密度、能量分布及解离的独立控制的技术资料
文档序号:3717963
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一种在等离子体反应器中处理工件的方法,包括将来自具有三个各自频率的至少三个RF功率源的RF功率耦合到反应器中的等离子体;通过选择至少三个RF功率源中的第一对的功率级之间的比率而设置离子能量分布形态;并且通过选择至少三个RF功率源中的第二对的...
该专利属于应用材料股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。
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