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本实用新型公开了一种PECVD多晶硅一体式镀膜杂质吸附装置，包括用于多晶硅片镀膜的镀膜石墨舟和用于对镀膜石墨舟进行支撑的支撑座，镀膜石墨舟内部设有若干用于放置多晶硅片的放置槽，支撑座内部设有用于对镀膜石墨舟内部杂质进行沉积吸附的沉积台，支撑...
该专利属于中润新能源（滁州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中润新能源（滁州）有限公司授权不得商用。

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