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本发明提供了一种胶液旋涂装置、控制方法和系统，所述装置包括投影单元、移液单元和装载单元；所述投影单元位于所述晶圆顶侧，用于向晶圆表面投影目标点，所述目标点用于定位所述晶圆，以使所述目标点位于晶圆中心；所述移液单元位于所述晶圆与所述投影单元之...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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