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本发明一种用于产生等离子体的系统,包括:反应室;设置在所述反应室内的晶片卡盘;位于所述反应室上部和顶部的第一线圈;射频功率源,所述射频功率源输出射频电流激励所述第一线圈产生等离子体;以及设置在所述反应室下方的第二线圈。本发明的用于产生等离子...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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本发明一种用于产生等离子体的系统,包括:反应室;设置在所述反应室内的晶片卡盘;位于所述反应室上部和顶部的第一线圈;射频功率源,所述射频功率源输出射频电流激励所述第一线圈产生等离子体;以及设置在所述反应室下方的第二线圈。本发明的用于产生等离子...