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本发明所述的消除氟化系列气体的装置和方法，是有关于在使用氟化系列气体的电脑或者是半导体等尖端产业装置的配置制造及洗涤过程中，被未反应的氟化系列气体所污染的气体通过高温，大容量的等离子体火焰中，利用热分解或者是等离子化学反应消除氟化系列气体污...
该专利属于严桓燮所有，仅供学习研究参考，未经过严桓燮授权不得商用。

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