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本发明公开了一种等离子放射电极，该等离子放射电极具有正面，该正面具有：中心部分，包括喷出用于产生等离子的处理气体的出气孔；以及外围部分，大致围绕出气孔。外围部分至少具有一个用于控制电极产生的等离子密度的阶梯。该电极可以用作诸如等离子蚀刻设备...
该专利属于兰姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过兰姆研究公司授权不得商用。

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