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用于CVD腔室清洗的远程诱导耦接的等离子体源制造技术
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下载用于CVD腔室清洗的远程诱导耦接的等离子体源的技术资料
文档序号:3717562
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本发明主要包括远程等离子体源和在远程等离子体源中产生等离子体的方法。清洗气体可在远程位置被激发为等离子体并且随后提供到处理腔室。通过在冷却RF线圈外部流动清洗气体,在可高压或低压下并且将高RF偏压施加到线圈而激发等离子体。冷却RF线圈可减少...
该专利属于应用材料股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。
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