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本发明提供一种电极及真空处理装置，其可提高成膜速度，且可提高成膜分布的均匀性。电极的特征在于，具有：沿着被处理基板（３）的面，隔着规定间隔并排延伸的多个电极（１７Ａ、１７Ｂ）；在多个电极（１７Ａ、１７Ｂ）之间，沿着电极（１７Ａ、１７Ｂ）延伸...
该专利属于三菱重工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三菱重工业株式会社授权不得商用。

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