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本发明公开了一种半导体刻蚀设备，属于半导体技术领域，一种半导体刻蚀设备包括。包括机架设置在所述机架内部的作业部，设置在所述机架上，位于作业部的升降门，设置在所述工作部的处理室，用于刻蚀半导体设备，清洗装置设置在工作部的内部，所述清洗装置包括...
该专利属于无锡合颖半导体设备技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡合颖半导体设备技术有限公司授权不得商用。

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