下载掩模坯料、转印用掩模的制造方法及半导体器件的制造方法的技术资料

文档序号:37144802

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本发明的目的在于,提供一种能够以良好的精度制作具有20nm左右这样的微小尺寸的辅助图案的转印用掩模的掩模坯料。上述掩模坯料具有以下结构:在基板(1)的主表面上依次层叠有图案形成用薄膜(2)、第1硬掩模膜(3)、第2硬掩模膜(4),其中,图案...
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