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本发明涉及一种电致发光矩阵器件的制备方法，使用第二电极隔离柱技术制备第二电极：其步骤，制备第一电极及有机层并在有机层上制备一层光刻保护层；之后在保护层上制备一层绝缘光刻胶，厚度大于等于１微米；按照欲制备的第二电极的条纹宽度及条纹间隔距离要求...
该专利属于北京交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京交通大学授权不得商用。

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