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一种半导体结构的形成方法，形成方法包括：提供基底，包括衬底和鳍式结构；进行一次或多次的深宽比调整处理，在露出的鳍式结构的顶部和侧壁上形成第一伪栅层，位于鳍式结构相对侧壁上的第一伪栅层围成V型沟槽；深宽比调整处理包括：在露出的鳍式结构的顶部和...
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