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基板处理方法以及基板处理装置制造方法及图纸
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下载基板处理方法以及基板处理装置的技术资料
文档序号:37138816
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一个示例性实施方式提供一种基板处理方法。基板处理方法包含以下工序:在腔室内准备具有含硅膜的基板的工序;和将包含选自C4H2F6气体、C4H2F8气体、C3H2F4气体及C3H2F6气体中的至少1种气体、HF气体以及卤化磷气体的处理气体导入至...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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