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本公开实施例公开了一种半导体器件及其制作方法,所述半导体器件包括:半导体层;第一二极管,位于所述半导体层中;所述第一二极管包括第一掺杂区和第二掺杂区,所述第二掺杂区位于所述第一掺杂区之上;隔离结构,位于所述半导体层中,位于所述第一二极管的一...该专利属于湖北江城芯片中试服务有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过湖北江城芯片中试服务有限公司授权不得商用。
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