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公开了一种包含芳香族基团或杂芳香族基团的化合物,其中该芳香族基团或该杂芳香族基团包括包含烯键式不饱和双键的第一取代基、为碘原子的第二取代基和包含酸不稳定基团的第三取代基,其中该第一取代基、该第二取代基和该第三取代基各自键合到芳香族基团或杂芳...该专利属于罗门哈斯电子材料有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过罗门哈斯电子材料有限责任公司授权不得商用。
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公开了一种包含芳香族基团或杂芳香族基团的化合物,其中该芳香族基团或该杂芳香族基团包括包含烯键式不饱和双键的第一取代基、为碘原子的第二取代基和包含酸不稳定基团的第三取代基,其中该第一取代基、该第二取代基和该第三取代基各自键合到芳香族基团或杂芳...