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提供一种能够提高基板处理的均匀性的技术。提供具有处理多个基板的处理室、装载多个基板的基板保持件以及在处理室内形成等离子体的电极并在多个基板之间设置辅助由电极进行的等离子体的形成的辅助板的技术。行的等离子体的形成的辅助板的技术。行的等离子体的...
该专利属于株式会社国际电气所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社国际电气授权不得商用。

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