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本发明公开了一种化学机械抛光系统，其包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块，所述抛光模块包括抛光盘、抛光组件和装卸台，所述装卸台设置于抛光盘的外侧，所述抛光组件设置于抛光盘和装卸台的上...
该专利属于华海清科股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过华海清科股份有限公司授权不得商用。

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