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本发明提供一种光掩模和光掩模的制造方法，具有半透光图案的光掩模能够在光刻步骤中有效地降低来自光掩模的曝光光线的反射。本发明的光掩模，在透明基板(1)上具有由半透光膜(6)构成的半透光图案(6a)，和由第1反射抑制膜(2)、遮光膜(3)以及第...
该专利属于株式会社SK电子所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社SK电子授权不得商用。

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