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本发明提供一种框架单元标记伪栅版图，包括框架图形，框架图形为单个shot中除芯片以外的剩余区域的图形；框架图形上设有标记图形，标记图形用于定义出衬底切割道上用于对准和测量的图形；标记图形间具有间隙，标记图形间插入有第一伪栅图形；设于标记图形...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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