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本申请涉及一种散射条的添加方法、掩膜版的制备方法。散射条的添加方法包括：在待校正图形的外侧添加至少一初始散射条；利用光学邻近校正模型对待校正图形进行校正得到目标图形；获取目标图形与初始散射条之间的第一距离；第一距离为初始散射条与目标图形之间...
该专利属于合肥新晶集成电路有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥新晶集成电路有限公司授权不得商用。

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