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本发明提供了一种掩模板版图的修正方法及系统和掩模板，方法包括以下步骤：S1，获取版图的技术节点信息及工艺层次信息以确定需要在邻侧添加辅助图形的目标主图形；S2，计算目标主图形到与其相邻的主图形的距离并记录为初始距离值；计算目标主图形的宽度值...
该专利属于上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司授权不得商用。

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