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本发明构思提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：处理槽，所述处理槽具有用于容纳处理液的容纳空间；支撑构件，所述支撑构件被配置为在所述容纳空间处以竖直姿势支撑至少一个基板；以及姿势改变机器人，所述姿势改变机器人被配置为将浸渍在所述处理液...
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