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本发明揭示一种基板处理装置，包括处理腔、供液槽和回收槽。第一管线连接供液槽的第一进液口与出液口，以使化学液在供液槽内部循环；第二管线连接第一管线和处理腔的进液口，以将供液槽内的化学液输送至处理腔；第三管线连接第一管线和回收槽的第一进液口，以...
该专利属于盛美半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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