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本实用新型提供了一种半导体工艺设备的反应腔室，包括：相互匹配密封的内腔体和内盖板，以及相互匹配密封的外腔体和外盖板，该内腔体和该内盖板构成内腔室以用作晶圆反应腔室，该外腔体和该外盖板将该内腔室包裹在内并在该内腔室的外周留有空余空间，该内腔室...
该专利属于拓荆科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拓荆科技（上海）有限公司授权不得商用。

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