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本发明提供一种提高自对准多重成像技术套刻量测准确性的方法，套刻量测图形包括前层图形和当层图形；前层图形包含多个叠对在当层图形外围的第一光栅结构；第一光栅结构由多个重复排列的条形单元组成；对第一光栅结构中的条形单元分割，形成包含多个重复排列的...
该专利属于上海华力集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力集成电路制造有限公司授权不得商用。

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