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一种半导体结构及其形成方法，方法包括：提供衬底，衬底上形成有底部鳍部，底部鳍部顶部形成有沟道结构；在衬底上形成隔离层，隔离层覆盖底部鳍部侧壁；形成覆盖隔离层和沟道结构顶部的牺牲层；形成贯穿牺牲层的沟槽，沟槽横跨沟道结构并向沟道结构两侧延伸，...
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