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本实用新型公开了一种用于化工反应釜的旋转式清洗装置，属于清洗装置领域，包括基板、固定机构和清洗机构，所述固定机构和清洗机构均位于基板上，所述固定机构包括滑轨、滑动件、夹板和调距杆，所述基板上设有四对滑轨，所述滑轨内滑动安装有两个滑动件；通过...
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