一种用于化工反应釜的旋转式清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于化工反应釜的旋转式清洗装置，属于清洗装置领域，包括基板、固定机构和清洗机构，所述固定机构和清洗机构均位于基板上，所述固定机构包括滑轨、滑动件、夹板和调距杆，所述基板上设有四对滑轨，所述滑轨内滑动安装有两个滑动件；通过设置固定机构，根据反应釜的尺寸，滑动滑轨至合适位置，接着再滑动两个夹板，使两个夹板均与壁板贴合，从而使装置能够适用于不同尺寸的反应釜，通过设置清洗机构，根据反应釜的尺寸，使第二伸缩杆上的清洁刷能够贴合在反应釜的内壁上，使清洁刷能够对反应釜的内壁进行清理，储液箱内的清洁剂会通过管道输送到反应釜内，配合旋转的清洁刷，从而对反应釜内壁进行清洗。从而对反应釜内壁进行清洗。从而对反应釜内壁进行清洗。

【技术实现步骤摘要】
一种用于化工反应釜的旋转式清洗装置


[0001]本技术属于清洗装置
，具体涉及一种用于化工反应釜的旋转式清洗装置。

技术介绍

[0002]反应釜是一种用于进行物理混合或化学反应的容器，反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药、食品等领域中，反应釜在进行一次生产后需要对其内部进行清洗，以防止残留物发生凝固、沉淀、变质等性质变化，保证不会影响下次生产的产品质量。
[0003]目前反应釜的清洗工作，通常是人工将清洁剂喷淋到反应釜的内壁，以此对反应釜内壁进行冲洗，这种冲洗方式虽然操作起来比较方便省事，但是不能将反应釜内壁上的残留物清除干净，仍旧会影响到下次生产的产品质量。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于化工反应釜的旋转式清洗装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：包括基板、固定机构和清洗机构，所述固定机构和清洗机构均位于基板上，所述固定机构包括滑轨、滑动件、夹板和调距杆，所述基板上设有四对滑轨，所述滑轨内滑动安装有两个滑动件，每对所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于化工反应釜的旋转式清洗装置，其特征在于：包括基板(1)、固定机构和清洗机构，所述固定机构和清洗机构均位于基板(1)上，所述固定机构包括滑轨(2)、滑动件(3)、夹板(4)和调距杆(5)，所述基板(1)上设有四对滑轨(2)，所述滑轨(2)内滑动安装有两个滑动件(3)，每对所述滑轨(2)内位置相互对应的两个滑动件(3)之间固定安装有夹板(4)，相邻的两个所述夹板(4)之间螺纹连接有调距杆(5)，所述基板(1)上在每对滑轨(2)相互远离的两侧均固定连接有滑杆(6)，每对所述滑轨(2)相互远离的两侧壁上均固定连接有滑动柱(7)，所述滑动柱(7)滑动安装在滑杆(6)上，所述滑动柱(7)上设有定位螺栓；所述清洗机构包括电机(8)、第一伸缩杆(9)、储液箱(14)和气泵(15)，所述基板(1)的中心处固定安装有电机(8)，所述电机(8)的输出端转动贯穿基板(1)并固定连接有第一伸缩杆(9)，所述第一伸缩杆(9)的下端固定连接有若干个第二伸缩杆(10)，所述第二伸缩杆(10)上固定安装有清洁刷(11)，所述基板(1)的顶面上固定贯穿有四个空心柱(12)，四个所述空心柱(12)的上端共同固定连接有十字板(13)，所述十字板(13)上固定安装有储液箱(14)，所述储液箱(14)的顶板上固定安装有气泵(15)，所述气泵(15)的输出端贯穿储液箱(14)的顶板，所述储液箱(14)的下端固定安装有四个管道(16)，四个所述管道(16)分别穿过四个空心柱(12)，四个所述管道(16)的下...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈星，
申请(专利权)人：陈星，
类型：新型
国别省市：