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本实用新型公开了一种用于LPCVD的进气结构,包括进气管，所述进气管从炉口处伸入炉内；所述炉口处设有炉口法兰，所述进气管的进气端安装在炉口法兰上。本实用新型在进气结构上将外围氧气沿设施管路接入炉口法兰，通过在炉口法兰内增加转接头的方式，从炉...
该专利属于拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司授权不得商用。

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