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掩膜形成方法及去除方法、以及由该方法制造的半导体器件、电路、显示体模件、滤色器及发光元件技术
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下载掩膜形成方法及去除方法、以及由该方法制造的半导体器件、电路、显示体模件、滤色器及发光元件的技术资料
文档序号:3697977
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本发明的目的在于提供可以减少制造成本的掩膜形成方法。一种为了采用液状的图案材料形成所需的图案,在被处理部件的表面形成掩膜的方法,其构成为具有:对整个被处理部件表面涂布抗蚀剂的第1工序(S152)、干燥已涂布的抗蚀剂的第2工序(S154)、通...
该专利属于精工爱普生株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过精工爱普生株式会社授权不得商用。
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