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存储器及其制造方法技术
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文档序号:36957028
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一种存储器及其制造方法,存储器包括硅衬底;多个晶体管,位于硅衬底上并沿行方向和列方向呈阵列分布,晶体管包括一个半导体柱;相邻两列半导体柱之间被沿列方向延伸的第一沟槽间隔开,相邻两行半导体柱之间被沿行方向延伸的第二沟槽间隔开;在一列半导体柱下...
该专利属于北京超弦存储器研究院所有,仅供学习研究参考,未经过北京超弦存储器研究院授权不得商用。
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