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本发明提供一种透明导电性膜，其包括：透明基体膜；厚度为１０－１００ｎｍ、折光率为１．４０－１．８０、平均表面粗糙度Ｒａ为０．８－３．０ｎｍ和ｘ为１．０－２．０的透明ＳｉＯｘ薄膜；和含有铟－锡复合氧化物、厚度为２０－３５ｎｍ、ＳｎＯ↓［２］／...
该专利属于日东电工株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日东电工株式会社授权不得商用。

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