透明导电性膜制造技术

本发明专利技术提供一种透明导电性膜，其包括：透明基体膜；厚度为１０－１００ｎｍ、折光率为１．４０－１．８０、平均表面粗糙度Ｒａ为０．８－３．０ｎｍ和ｘ为１．０－２．０的透明ＳｉＯｘ薄膜；和含有铟－锡复合氧化物、厚度为２０－３５ｎｍ、ＳｎＯ↓［２］／（Ｉｎ↓［２］Ｏ↓［３］＋ＳｎＯ↓［２］）比例为３－１５ｗｔ％的透明导电性薄膜，其中该透明导电性薄膜通过所述透明ＳｉＯｘ薄膜位于所述透明基体膜的一侧。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于接触面板(touch panel)的具有透明基体膜的透明导电性膜，该透明导电性膜的制备方法和含有该透明导电性膜的接触面板。
技术介绍
在可见光范围透明并具有导电性的薄膜通常用于显示系统(例如液晶显示器和电致发光显示器)、透明电极(例如接触面板)以及用于透明物的静电防护和电磁波截止。含有表面上具有氧化铟薄膜的玻璃板的所谓导电性玻璃常常被用作这样的透明导电性薄膜。然而，由于用玻璃作为基体，导电性玻璃的挠性和可加工性能差，在某些情况下不能应用。固此，近年来，使用含有聚对苯二甲酸乙二醇酯的各种塑料膜为基体的导电性薄膜，因具有诸如挠性、可加工性和耐冲击性强以及重量轻等各种优点而得到应用(参见参考文献1和2)。然而，这些类型的导电性薄膜的薄膜表面光反射率大，因此它们的透明性、抗刮性和抗弯曲性较差，在使用期间容易被刮伤从而电阻增加或者中断线路，同时其在高温和高湿环境中抗环境干扰性能也较差。具体地说，近年来，用于智能电话和汽车导航器的接触面板的市场需求在增长，非常需要对在高温和高湿环境中的抗环境干扰性能进行改进。本专利技术人曾经提出一种获取透明性、抗刮性和抗弯曲性得到改善的透明本文档来自技高网...

【技术保护点】
透明导电性膜，含有：透明基体膜；厚度为１０－１００ｎｍ、折光率为１．４０－１．８０、平均表面粗糙度Ｒａ为０．８－３．０ｎｍ的透明ＳｉＯｘ薄膜，其中ｘ为１．０－２．０；和含有铟－锡复合氧化物的透明导电性薄膜，其厚度为２ ０－３５ｎｍ，ＳｎＯ↓［２］／（Ｉｎ↓［２］Ｏ↓［３］＋ＳｎＯ↓［２］）的比例为３－１５ｗｔ％，其中透明导电性薄膜通过透明ＳｉＯｘ薄膜位于透明基体膜的一侧。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：梨木智刚，菅原英男，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]